脈沖激光外延制備系統(tǒng)簡(jiǎn)單實(shí)用的PLD系統(tǒng)、磁控濺射系統(tǒng)，性能穩(wěn)定的薄膜沉積系統(tǒng)，可提供PLD、磁控濺射、蒸發(fā)鍍膜等多種薄膜制備方案，是多鐵性薄膜制備的設(shè)備，*的石墨烯生長(zhǎng)裝置可以制備高質(zhì)量的石墨烯薄膜。

　　制備系統(tǒng)可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、石墨烯、碳納米管、2D材料，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測(cè)工具。此外還為您提供標(biāo)準(zhǔn)的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導(dǎo)電薄膜、無(wú)定型或納米晶、聚合物、納米鉆、鉆涂層以及器件加工。

　　系統(tǒng)利用磁性氧化物中固有的氧空位，不需要離子液體柵極，有利于廣泛應(yīng)用于氧化物多鐵異質(zhì)結(jié)構(gòu)，簡(jiǎn)化了設(shè)備的應(yīng)用，此方法對(duì)利用離子運(yùn)動(dòng)調(diào)控多鐵材料電控磁性能提供了新的思路。與傳統(tǒng)制備色譜相比，有著高壓力，大流量，配備餾分收集器，具有更高的處理樣品能力，高精度梯度泵，可以實(shí)現(xiàn)梯度混合，雙泵頭設(shè)計(jì)降低了脈動(dòng)，可以適應(yīng)不同類型的色譜填料。

　　系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn)

　　1、應(yīng)用范圍廣，制備純度高，可適應(yīng)不同柱子和填料。

　　2、全自動(dòng)化設(shè)計(jì)，從軟件上實(shí)現(xiàn)對(duì)儀器全程控制，達(dá)到智能化。

　　3、可選配3DS 層析過(guò)程分析工具軟件，強(qiáng)大全譜分析功能。

　　4、安全可靠，壓力報(bào)警，流量報(bào)警。

　　5、軟件調(diào)節(jié)氘燈能量，可延長(zhǎng)使用壽命溶劑輸送系統(tǒng)。

　　脈沖激光外延制備系統(tǒng)將激光聚焦于靶材上一個(gè)較小的面積，利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發(fā)甚至電離，使其能夠脫離靶材而向基底運(yùn)動(dòng)，進(jìn)而在基底上沉積，從而形成薄膜的一種方式。在眾多的薄膜制備方法中應(yīng)用較為廣泛，可用來(lái)制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質(zhì)薄膜，甚至還用來(lái)制備一些難以合成的材料膜，如金剛石、立方氮化物膜等。