一、光刻機(lithography)又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
 

　　二、組成步驟：利用模版去除晶圓表面的保護膜、將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護膜的部分被腐蝕掉后形成電路、
 

　　用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì)、模版和晶圓大小一樣，模版不動、模版和集成電路大小一樣，模版隨曝光機聚焦部分移動。
 

　　三、曝光機是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設備，制造和維護需要高度的光學和電子工業(yè)基礎，世界上只有少數(shù)廠家掌握。因此曝光機價格昂貴，通常在3千萬至5億美元。
 

　　四、投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，光刻機號稱精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。光刻機堪稱現(xiàn)代光學工業(yè)之花，其制造難度之大，只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經(jīng)購買過Nikon的光刻機)和日本Canon三品牌為主。
 

　　五、工件臺為光刻機的一個關(guān)鍵，由掩模樣片整體運動臺(XY)、掩模樣片相對運動臺(XY)、轉(zhuǎn)動臺、樣片調(diào)平機構(gòu)、樣片調(diào)焦機構(gòu)、承片臺、掩模夾、抽拉掩模臺組成。樣片調(diào)焦機構(gòu)由調(diào)焦手輪、杠桿機構(gòu)和上升直線導軌等組成，調(diào)平上升過程初步調(diào)焦，調(diào)平完成鎖緊球氣浮后，樣片和掩模之間會產(chǎn)生一定的間隙，因此必須進行微調(diào)焦。另一方面，調(diào)平完成進行對準，必須分離一定的對準間隙，也需要進行微調(diào)焦。