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多功能磁控濺射鍍膜儀

簡要描述：多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā))
多種薄膜沉積設備，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)等。

產(chǎn)品型號：
廠商性質：代理商
更新時間：2024-12-09
訪問量：3783

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鍍膜設備

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詳細介紹

品牌	其他品牌	產(chǎn)地類別	進口
應用領域	能源,電子,電氣

多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā))

技術參數(shù)

腔體尺寸: ?300mm,400mm高；
泵體:260l/s Turbo泵,含有泵前過濾膜；
蒸發(fā)方式: 用戶可選擇熱蒸發(fā)(boat evaporation or crucible), 電子束蒸發(fā)或濺射蒸發(fā)；
樣品夾具: 多類型,有rotation, heating, cooling, biasing；
樣品尺寸可到?250mm,或者多個小樣品；

設備大小:一般 495 X 555 X 1302毫米；

多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā))

主要特點

此系統(tǒng)包含大多數(shù)的真空薄膜鍍層技術: 熱蒸發(fā)(boat evaporation or crucible)，電子束蒸發(fā)，濺射沉積。

這樣我們在一臺設備上可以靈活運用多種膜生長技術,針對各種不同大小和形狀的樣品,非常方便切換沉積模式。

腔體的開放式設計,使得樣品大小從幾毫米到250毫米均可鍍層。樣品夾具可以輕松固定多個樣品并同時鍍膜。此系統(tǒng)真空腔內連接一個300mm寬的快速通道門,可以非常方便和快速地切換樣品和靶源。這對于薄膜制備研究機構,面對多種材料增加或改變沉積方式,轉換起來非常方便,并沒有任何空間限制。

此系統(tǒng)為模塊式設計,可以針對用戶的具體應用來訂制設計結構。

儀器介紹

在所有的小型高真空鍍膜設備中,此設備功能強大,性能價格比非常好。

鍍膜方式包含了熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā)和磁控濺射沉積。

由于它的模塊化設計,使得多數(shù)研發(fā)人員用起來非常方便,針對各種樣品易于轉換沉積條件,是研究人員不可獲缺的鍍膜工具!

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