在線(xiàn)量產(chǎn)型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

在線(xiàn)量產(chǎn)型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

儀器簡(jiǎn)介：

在線(xiàn)量產(chǎn)型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
·  高轉(zhuǎn)換效率
· 大容量吸收，電池可靠性長(zhǎng)達(dá)10年
· 抗輻射
· 低成本的基片和復(fù)合基片

技術(shù)參數(shù)：

1. 真空腔體模塊
a. 主沉積腔, 1 SET
- 形狀 & 尺寸 : 前開(kāi)門(mén)式 (Φ500 x H600 mm)
- 蒸發(fā)源口徑 : effusion cell 5 ea (CF4.5" 4ea, CF6" 1ea)
- 接口 : 可視窗 (帶擋板), 泵抽氣口, 前加熱器,表頭, 排空口, 基片擋板,  T/C 口, 樣品轉(zhuǎn)移口,高溫計(jì),備用 E-Cell port (CF4.5" 2ea), T/M 傳感器
- 外部水冷
-  內(nèi)部保護(hù)蓋
b. 樣品轉(zhuǎn)移腔
- 腔體: 前開(kāi)門(mén)式(Φ150 x H200 mm)
- 基片夾具:  可夾100X100 mm2 基片
- 磁力桿傳送基片
- 接口: 泵,排空,表頭,可視窗,閥,備用etc.
- MFC(Ar 10,000 sccm) 和花傘噴淋吹掃

c. 基片樣品臺(tái)模塊, 1 SET
- 基片尺寸 : Φ150 mm (100X100 mm2 x 1片)
- 基片加熱模塊 : SiC加熱器 , 最高 700 ℃
- 基片加熱功率 (40A x 60V)
- 溫度顯示,溫度指示
- 前加熱器模塊
- 包括擋板
- Z軸移動(dòng), 轉(zhuǎn)動(dòng)

2. 真空模塊
a. 真空泵
 Rotary泵: 600 l/min,用于粗抽主樣品沉積腔
 冷凝泵, N2 2400 l/sec,用于高真空和沉積工作
b.  真空閥和泵的管道
 圓形閘板閥, 10 英寸,用于冷凝泵
 圓形閘板閥, 10 英寸,用于樣品轉(zhuǎn)移腔
 右角閥
 粗抽泵,用于樣品轉(zhuǎn)移腔
 高真空閥
 排空閥  
c. 真空測(cè)試
離子規(guī),用于主腔體高真空測(cè)試 , 1 set
 Convection計(jì), 用于主腔體粗抽低真空測(cè)試, 2 set
d. 膜厚監(jiān)控系統(tǒng)
 石英振蕩型沉積控制器,6通道,(CYGNUS controller)
 共沉積模式監(jiān)控 : 可測(cè)試 4個(gè)蒸發(fā)源
 共沉積速率模式監(jiān)控 : 可測(cè)試 4個(gè)蒸發(fā)源
 單個(gè)晶體傳感器: 4 set
 測(cè)試分辨率: 0.5 ?
 厚度顯示范圍: 0 to 999.9 k?
 厚度準(zhǔn)確度: 0.5%
 屏幕參數(shù)顯示

3. 蒸發(fā)源模塊
a. EFFUSION CELL SOURCE & 電源 : 4 SET
- 蒸發(fā)源 : Effusion cell ( for Cu, In,Ga,Se)

4. 系統(tǒng)控制模塊
- 手動(dòng)過(guò)程控制及可升級(jí)至自動(dòng)過(guò)程控制
- 硬件: PLC, PC
- 安全自鎖, 用于電路,壓縮氣體,冷卻水循環(huán),泵及閥,, etc
- 基片溫度顯示: 曲線(xiàn)圖和高溫計(jì), etc.
- 系統(tǒng)狀態(tài)顯示屏

5. 主機(jī)框架及控制柜
- 整體機(jī)器被可移動(dòng)的顯示屏罩著
- 框架下有可調(diào)節(jié)支腿- 電源 (壓力規(guī), 蒸發(fā)源的電源etc.)
- 19" 支架用于控制屏及控制器

主要特點(diǎn)：

CIGS 沉積系統(tǒng)的主要特點(diǎn)：
1. 沉積厚度: 可達(dá)幾個(gè)微米u(yù)p to several micron
2. 沉積材料: CIGS(Cu, In, Ga, Se), etc..
3. 膜厚均勻性: ≤ ± 5 % 在 100X100 mm2 基片上
4. 基片: Soda-lime glass, SUS foil, etc..
5. 沉積模式: 在基片加熱過(guò)程中，使用 Effusion cell 蒸鍍
6. 產(chǎn)量: 100X100 mm2 x 1sheet/ batch, 手動(dòng)
7. 真空度: 極限真空 3 x 10 -7 Torr
8. 真空腔: 樣品轉(zhuǎn)移腔和主沉積腔
9. 控制系統(tǒng): 基于 PLC and PC上的手動(dòng)操作
10. 目的: 研究及發(fā)展（R&D）