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磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件

簡(jiǎn)要描述：磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件
磁控濺射源/靶槍（1英寸/2英寸/3英寸）我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1“, 2“ and 3“. 以及矩形靶槍
安裝法蘭口徑：NW63CF，NW100CF
真空腔體內(nèi)長(zhǎng)度范圍：150-400mm
真空腔體內(nèi)端面直徑：60-96
靶材直徑： 1“, 2“ and 3“
靶材大厚

產(chǎn)品型號(hào)：
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2024-12-09
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磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件

技術(shù)參數(shù)：
我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶槍
安裝法蘭口徑：NW63CF，NW100CF
真空腔體內(nèi)長(zhǎng)度范圍：150-400mm
真空腔體內(nèi)端面直徑：60-96
靶材直徑： 1", 2" and 3"
靶材最大厚度：4-6mm
冷卻：水冷
磁控濺射源/靶槍（1英寸/2英寸/3英寸）

特點(diǎn)：
100%超高真空（UHV）應(yīng)用
放射性沉積模式
在線Z軸驅(qū)動(dòng)及傾斜
水冷時(shí)不會(huì)存在水汽
平衡靶和非平衡靶設(shè)計(jì)
高強(qiáng)度磁體應(yīng)用于磁性材料

磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件

應(yīng)用領(lǐng)域：
PVD沉積
金屬涂層
納米結(jié)構(gòu)薄膜
多層鍍層
反應(yīng)濺射
射頻濺射，直流濺射，脈沖直流濺射
硬質(zhì)涂層

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