英國KP開爾文探針是一種無損的表面電學(xué)性能測(cè)量工具,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、表面物理和納米技術(shù)領(lǐng)域。尤其是在納米材料的表面性能表征中,KP技術(shù)因其高空間分辨率和非接觸性,逐漸成為一種重要的表面電勢(shì)(工作函數(shù))測(cè)量方法。英國KP開爾文探針原理及特點(diǎn)開爾文探針技術(shù)的基本原理是利用探針和樣...
脈沖激光外延制備系統(tǒng)簡(jiǎn)單實(shí)用的PLD系統(tǒng)、磁控濺射系統(tǒng),性能穩(wěn)定的薄膜沉積系統(tǒng),可提供PLD、磁控濺射、蒸發(fā)鍍膜等多種薄膜制備方案,是多鐵性薄膜制備的設(shè)備,*的石墨烯生長裝置可以制備高質(zhì)量的石墨烯薄膜。制備系統(tǒng)可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、石墨烯、碳納米管、2D材料,例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測(cè)工具。此外還為您提供標(biāo)準(zhǔn)的薄膜以及材料涂層,例如氧化物涂層、導(dǎo)電薄膜、無定型或納米晶、聚合物、納米鉆、鉆涂層以及器件加工。系統(tǒng)利用磁性氧化物中固有的氧空位,不需要離子液體柵極,...
快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)低價(jià)格、高性能、低樣品消耗,*的數(shù)據(jù)獲取功能,使用簡(jiǎn)便,是研究和教學(xué)的理想儀器。因?yàn)橛械幕瘜W(xué)反應(yīng)某一反應(yīng)物是過量的,當(dāng)反應(yīng)進(jìn)行到一定程度,目標(biāo)產(chǎn)物已經(jīng)獲得,該過量反應(yīng)物繼續(xù)存在的話會(huì)進(jìn)一步反應(yīng)生成不希望的產(chǎn)物,所以需要淬滅,淬滅的原理是用另一種更易與該過量化合物反應(yīng)的化合物與之反應(yīng),從而將其從體系中除去。在化學(xué)反應(yīng)中,為了保證反應(yīng)的*,通常某一反應(yīng)物是過量的,此時(shí)過量的反應(yīng)物可能會(huì)進(jìn)一步反應(yīng)生成不需要的產(chǎn)物或者對(duì)檢測(cè)造成影響,所以就需要進(jìn)行淬滅,化學(xué)發(fā)光需要用...
快速動(dòng)力學(xué)停流裝置是好的多路混合停流裝置,淬滅裝置,快速混合溫度突變等裝置系統(tǒng),產(chǎn)品設(shè)計(jì)解決您快速動(dòng)力學(xué)應(yīng)用中的所有需要。主要特點(diǎn):1.恒溫水夾套設(shè)計(jì),全電腦控制操作。2.程控驅(qū)動(dòng)注射器,每路樣品流量可調(diào),不受濃度與粘度影響。3.高精度,*可調(diào)的混合與稀釋比例。4.極短的死時(shí)間,可達(dá)0.25毫秒。5.二路、三路、四路流動(dòng)注射停流裝置可選擇??蓴U(kuò)展溫度適用范圍:快速動(dòng)力學(xué)停流裝置可更換SFM附件,應(yīng)用于:化學(xué)淬滅,光學(xué)淬滅以及光學(xué)延時(shí),冷凍淬滅,X-射線散射停流,中子色散停流,...
表面光電壓譜采用白光偏置光路激發(fā)材料;大功率*脈沖激光器,采用電磁屏蔽,無任何外界干擾,測(cè)試光路,水平與垂直可任意在線切換,實(shí)現(xiàn)固體樣品和液體樣品均可測(cè)試分析。光生載流子動(dòng)力學(xué)主要測(cè)試技術(shù),載流子動(dòng)力學(xué)測(cè)試技術(shù)主要有電學(xué)和譜學(xué)兩類,電學(xué)方法主要是光電化學(xué),測(cè)量方式又分時(shí)間域和頻率域,時(shí)間域方法主要有瞬態(tài)光電壓(TPV)和瞬態(tài)光電流(TPC),頻率域方法主要有電化學(xué)阻抗譜(EIS)和光強(qiáng)度調(diào)制光電壓譜(IPVS)和光強(qiáng)度調(diào)制光電流譜(IMPS)等。譜學(xué)方法主要是瞬態(tài)吸收光譜和瞬...
多功能磁控濺射儀由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測(cè),用于制備各種金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜、磁控膜、光學(xué)膜、超導(dǎo)膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜。磁控濺射儀的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子,新電子飛向基片,Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶...
狹縫擠出式涂布機(jī)是一款應(yīng)用狹縫擠出式涂布模頭對(duì)基材進(jìn)行非接觸式涂布的一款設(shè)備。該設(shè)備通過配置狹縫擠壓涂布模頭、精密計(jì)量供料系統(tǒng)與進(jìn)料閥體配合可實(shí)現(xiàn)連續(xù)涂布和條紋涂布兩種類型的涂布功能。設(shè)備涂布精度高,一致性和穩(wěn)定性好,廣泛應(yīng)用于鋰離子電池、FCCL、光學(xué)薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業(yè),狹縫擠出涂布方式,涂布精度高,涂層一致性好;供料閥體配合模頭墊片,可實(shí)現(xiàn)連續(xù)、間歇、條紋、網(wǎng)格等形狀的涂布;模頭根據(jù)客戶材料特性設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)超薄亞微米級(jí)涂布;計(jì)量泵供料,漿料封閉運(yùn)行,可自由設(shè)定...
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