磁控濺射源(1英寸/2英寸/3英寸)-真空組件 磁控濺射源/靶槍(1英寸/2英寸/3英寸)我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1“, 2“ and 3“. 以及矩形靶槍 安裝法蘭口徑:NW63CF,NW100CF 真空腔體內長度范圍:150-400mm 真空腔體內端面直徑:60-96 靶材直徑: 1“, 2“ and 3“ 靶材大厚
真空腔體水氣解吸附組件2 ZCUVE代表了水蒸氣解吸技術的新進展。*的設計可從2.75“擴展到8”法蘭尺寸,紫外線功率因數(shù)w按比例增加
射頻離子/原子源(可轉換)-真空組件 射頻離子源:用于離子束沉積,離子束輔助沉積,MEMS 射頻原子源:用于合成氧化物,氮化物,氫原子清洗
X射線光源-真空組件 X射線光源(可用于X射線電子能譜) 雙陽極X射線光源 多種陽極材料 具有差分抽氣或者從安裝口抽氣 70mm O.D. CF安裝法蘭
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