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球磨測(cè)厚儀適用于測(cè)定涂在平整試板上的濕膜厚度，但在現(xiàn)場(chǎng)或工廠也可以用于只向一個(gè)方向彎曲的工件表面，只要底材在兩同心輪間不彎曲變形以至影響儀器的測(cè)定即可。當(dāng)結(jié)果評(píng)定時(shí)，使用每個(gè)標(biāo)度的線性中心區(qū)段，即使用標(biāo)度總量程的80%左右的區(qū)段，精度高。主要用于測(cè)定涂漆表面濕膜的厚度并可大致估計(jì)膜干時(shí)的大致厚度，該儀器既可用在實(shí)驗(yàn)室又可用于生產(chǎn)控制。主要用于測(cè)量色漆、清漆等各種涂料在施工時(shí)涂層厚度的工具。各種涂料施工后，立即將濕膜測(cè)厚儀穩(wěn)定垂直地放在平整的工件涂層表面，即可測(cè)得涂層厚度。球磨...

深能級(jí)瞬態(tài)譜儀是半導(dǎo)體領(lǐng)域研究和檢測(cè)半導(dǎo)體雜質(zhì)、缺陷深能級(jí)、界面態(tài)等的重要技術(shù)手段！測(cè)試功能：電容模式、定電容模式、電流模式、（雙關(guān)聯(lián)模式）、光激發(fā)模式、FET分析、MOS分析、等溫瞬態(tài)譜、Trapprofiling、俘獲截面測(cè)量、I/V,I/V(T)、C/V,C/V(T)、TSC/TSCAP、光子誘導(dǎo)瞬態(tài)譜、DLOS。測(cè)試根據(jù)半導(dǎo)體P-N結(jié)、金-半接觸結(jié)構(gòu)肖特基結(jié)的瞬態(tài)電容（△C~t）技術(shù)和深能級(jí)瞬態(tài)譜的發(fā)射率窗技術(shù)測(cè)量出的深能級(jí)瞬態(tài)譜，是一種具有很高檢測(cè)靈敏度的實(shí)驗(yàn)方法，...

脈沖激光沉積也被稱(chēng)為脈沖激光燒蝕（pulsedlaserablation，PLA），是一種利用激光對(duì)物體進(jìn)行轟擊，然后將轟擊出來(lái)的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。不過(guò)，脈沖激光沉積的發(fā)展與探究，處處受制。事實(shí)上，當(dāng)時(shí)的激光科技還未成熟，可以得到的激光種類(lèi)有限；輸出的激光既不穩(wěn)定，重復(fù)頻率亦太低，使任何實(shí)際的膜生成過(guò)程均不能付諸實(shí)行。因此，PLD在薄膜制作的發(fā)展比其它技術(shù)落后。以分子束外延（MBE）為例，制造出來(lái)的薄膜質(zhì)素就優(yōu)良得多。往后十年，由于激光科技的...

納米壓印系統(tǒng)是一種用于數(shù)學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器。生物大分子的納米圖案變化對(duì)于組織工程具有非常重要的意義，如何將在生物活性前提下實(shí)現(xiàn)生物大分子的納米圖案仍然是一個(gè)科學(xué)挑戰(zhàn)。利用納米壓印過(guò)程的生物相溶性，可以將生物大分子DNA、蛋白質(zhì)等直接進(jìn)行納米圖案化，進(jìn)而研究其在生物醫(yī)療和組織工程領(lǐng)域的應(yīng)用。納米壓印方法：包括步驟：提供集成模具；所述集成模具包括平面板以及緊密固定在所述平面板上的多個(gè)具有納米圖案的單元模具；提供襯底；在所述襯底表面形成光刻膠層；將所述集成...

皮可安培計(jì)轉(zhuǎn)動(dòng)線圈式電流表轉(zhuǎn)動(dòng)線圈式電流表(galvanometer)裝有一分流器(shunt)以降低敏感度，它只能用于直流，但加一整流器(rectifier)也可用于交流?；竞?jiǎn)介：?測(cè)量電路中電流強(qiáng)度的儀器，也叫安培表、電流表。主要類(lèi)型有轉(zhuǎn)動(dòng)線圈式電流表、轉(zhuǎn)動(dòng)鐵片式電流表、熱偶式電流表以及熱線式電流表轉(zhuǎn)動(dòng)線圈式電流表轉(zhuǎn)動(dòng)線圈式電流表(galvanometer)裝有一分流器(shunt)以降低敏感度，它只能用于直流，但加一整流器(rectifier)也可用于交流。皮可安培計(jì)...

多功能磁控濺射儀在所有的小型高真空鍍膜設(shè)備中,此設(shè)備功能強(qiáng)大,性能價(jià)格比非常好。鍍膜方式包含了熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā)和磁控濺射沉積。由于它的模塊化設(shè)計(jì),使得多數(shù)研發(fā)人員用起來(lái)非常方便,針對(duì)各種樣品易于轉(zhuǎn)換沉積條件,是研究人員不可獲缺的鍍膜工具!系統(tǒng)主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。主要性能指標(biāo)：極限壓力≤2.0x10-5Pa；基片結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)6個(gè)工位；樣品尺寸:Ф30mm，可放置6片；運(yùn)動(dòng)方式：0-360°；...