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  • 反應離子刻蝕設備(美國產,高性價比)
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    反應離子刻蝕設備(美國產,高性價比) -聚合物或光阻的等溫各向同性干刻 -硅片或玻璃表面清潔 -硅表面氧化去除

    更新時間:2024-12-09型號:
  • 電子束蒸發(fā)鍍膜系統
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    電子束蒸發(fā)鍍膜系統 熱蒸發(fā)系統、超高真空蒸發(fā)系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學氣相淀積系統PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強化學氣相沉積、離子泵等;

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  • 磁控濺射鍍膜系統
    磁控濺射鍍膜系統

    磁控濺射鍍膜系統 專業(yè)的沉積設備制造商,為各個領域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案:電子束蒸發(fā)系統、熱蒸發(fā)系統、超高真空蒸發(fā)系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD

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  • 脈沖激光沉積分子束外延鍍膜系統
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    脈沖激光沉積分子束外延鍍膜系統 優(yōu)異的性能, PVD公司生產的脈沖激光沉積分子束外延系統在國內有較多用戶,為眾多老師開啟薄膜外延制備的新篇章。歡迎前來參觀咨詢。

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  • 脈沖激光沉積鍍膜系統(PLD)
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    脈沖激光沉積鍍膜系統(PLD) 靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài),然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構造的人工合成新材料

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  • 基質輔助脈沖激光沉積鍍膜系統
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    基質輔助脈沖激光沉積鍍膜系統The polymer material will then deposit on the substrate while the solvent will be pumped away (if you choose the correct solvent).

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